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<正> 电子工业中使用的高纯气体要求含氧量在0.2～0.05ppm。这不仅要求分析方法灵敏度高,而且还要解决外界氧的污染问题。为了避免在分析进样时环境中的氧对样品气的污染,我们在ZAV—2型微氧仪(日本产)上设计安装了无污染进样装置。同时,
无污染进样法分析电子气中的痕量氧
【摘 要】
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<正> 电子工业中使用的高纯气体要求含氧量在0.2～0.05ppm。这不仅要求分析方法灵敏度高,而且还要解决外界氧的污染问题。为了避免在分析进样时环境中的氧对样品气的污染,我们
【机 构】
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中国科学院半导体研究所,中国科学院半导体研究所
【出 处】
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低温与特气
【发表日期】
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1989年4期
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