【摘 要】
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９９０７０４２直流磁控溅射沉积Ｔｉ┐Ｃ∶Ｈ膜——ＫｕｌｉｋｏｖｓｋｙＶ．ＤｉａｍｏｎｄａｎｄＲｅｌａｔｅｄＭａｔｅｒｉａｌｓ，１９９８，７（６）∶７７４（英文）研究用直流磁控溅射沉积法及用Ｔｉ靶、ＣＨ４加Ａｒ气混合气制备类金刚石膜［含（１０～２０）％...
DC Magnetron Sputtering Deposition of Ti┐C:H Film - KulikovskyV.
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９９０７０４２直流磁控溅射沉积Ｔｉ┐Ｃ∶Ｈ膜——ＫｕｌｉｋｏｖｓｋｙＶ．ＤｉａｍｏｎｄａｎｄＲｅｌａｔｅｄＭａｔｅｒｉａｌｓ，１９９８，７（６）∶７７４（英文）研究用直流磁控溅射沉积法及用Ｔｉ靶、ＣＨ４加Ａｒ气混合气制备类金刚石膜［含（１０～２０）％...
DC Magnetron Sputtering Deposition of Ti┐C:H Film - KulikovskyV. Diamond and Related Materials, 1998, 7 (6): 777 (English) Study of diamond-like carbon films prepared by direct current magnetron sputtering deposition with Ti target, CH4 and Ar gas mixture [10-20%]
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