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期刊论文
SU-8胶在深紫外光源下的光强分布模拟
SU-8胶在深紫外光源下的光强分布模拟
来源 :传感技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:rocket830214
【摘 要】
:
本文根据菲涅尔衍射的原理,在考虑了折射、光刻胶对光的吸收以及硅片对光的反射的情况下,给出了SU-8胶在365nm光源下经过方孔曝光时,光刻胶中光强的二维分布及三维分布的计算模
【作 者】
:
冯明
黄庆安
李伟华
周再发
朱真
【机 构】
:
东南大学MEMS教育部重点实验室
【出 处】
:
传感技术学报
【发表日期】
:
2006年05A期
【关键词】
:
菲涅尔衍射
深紫外光强度分布
SU-8胶
Fresnel diffraction
the distribution of the deep UV light
【基金项目】
:
国家杰出青年科学基金资助课题(50325519)
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本文根据菲涅尔衍射的原理,在考虑了折射、光刻胶对光的吸收以及硅片对光的反射的情况下,给出了SU-8胶在365nm光源下经过方孔曝光时,光刻胶中光强的二维分布及三维分布的计算模拟.将试验结果与实际情况相比,表现出了一定的适用性,可以近似作为光刻胶形貌的最后近似.
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