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本文用导电原子力显微镜(AFM)针尖诱导局域氧化反应的方法,在Ti膜表面制备了TiO2纳米结构.实验结果表明,Ti膜的氧化阈值为-7伏,制备的TiO2纳米线的最小线宽达到10 nm,TiO2纳米线的高度和宽度随针尖偏压的增大而增大.在优化的氧化刻蚀条件下,通过控制针尖偏压和扫描方式制备出了图形化的TiO2结构,本研究表明基于导电AFM的纳米刻蚀技术将成为构筑纳米电子器件的重要工具.