一种激光诱导灼蚀制备纳米硅的新方法

来源 :光电子．激光 | 被引量 : 0次 | 上传用户：xuwei800

【摘要】

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采用高强度激光灼蚀沉积(PLD)的方式,在流动N2做为保护气体的情况下,成功制备出Si纳米结构,并利用扫描电镜(SEM)、光致发光(PL)进行表征.结果表明,该方法制备的纳米Si尺寸在

【作者】

：

林华传陈松岩谢可张芹黄传敬

【机构】

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厦门大学物理系,厦门大学化学系

【出处】

：

光电子．激光

【发表日期】

：

2005年6期

【关键词】

：

制备激光诱导纳米硅扫描电镜(SEM) 高强度激光保护气体纳米结构光致发光测量条件方法比较强度比 Si Nanostructured mater

【基金项目】

：

国家自然科学基金

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采用高强度激光灼蚀沉积(PLD)的方式,在流动N2做为保护气体的情况下,成功制备出Si纳米结构,并利用扫描电镜(SEM)、光致发光(PL)进行表征.结果表明,该方法制备的纳米Si尺寸在几nm到几10 nm之间,同时它具有较强的发光,发光强度比同等测量条件下的多孔Si(PS)样品高10倍以上,而且方法比较简单.

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