基于气相法SiO2制备高光泽微孔型成像涂膜的研究

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以气相法二氧化硅(SiO2)为成孔介质,高聚合度聚乙烯醇(PVA)为成膜物制备了高光泽微孔型涂膜,讨论了硅烷偶联剂KH-790用量、PVA聚合度、AlCl3用量等对微孔成膜及其光泽度、成像耐水性的影响。采用纳米粒径分析仪、打印机,色密度计、光泽度计等对其进行了表征分析。结果表明,KH-790可有效实现气相法SiO2表面改性与分散;交联剂聚酰胺聚脲(PAPU)和AlCl3配合使用可有效实现高聚合度PVA的交联,并降低PVA的交联温度,实现该类微孔型介质涂膜在高分子合成纸上的应用,并制备高光泽微孔型吸墨打印合成纸。
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