【摘 要】
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本专利是在磁带涂布工艺中,使干燥前的磁层表面与-可挠性相接触.经磁场取向为特点的磁带制造法.专利详细说明:如一般所知,在磁带制造工艺中,采用磁层涂布干燥前进行磁场取向
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本专利是在磁带涂布工艺中,使干燥前的磁层表面与-可挠性相接触.经磁场取向为特点的磁带制造法.专利详细说明:如一般所知,在磁带制造工艺中,采用磁层涂布干燥前进行磁场取向.利用取向方向提高电磁转换特性的方法.但是经
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