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为了减小植入损伤,提高神经微电极刺激或记录的空间密度,提出了一种基于聚合物基质材料的植入式双面柔性神经微电极的制作工艺和方法.该方法采用光敏型聚酰亚胺(Durimide 7510)作为微电极的基质材料,通过粘结剂局部键合和电化学腐蚀牺牲层的方法实现电极翻转以制作反面电极.同时采用了一种基于应力集中的凹槽结构,以保证所得微电极形状的规整性.微电极的SEM和电学性能测试结果表明,微电极的结构形貌和电学性能满足植入式电极的要求.