GaAs表面钝化的新方法:S_2Cl_2处理

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wh54997695
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本文用光致发光谱(PL)结合俄欧电子能谱(AES)和X射线光电子能谱(XPS),首次研究了S2Cl2钝化的GaAs(100)表面.结果表明,PL强度较钝化前样品提高了将近两个数量级.钝化后的表面AES谱显示含有S,Ga,AS,C和少量Cl原子而不含O原子.XPS谱说明S原子和Ga、As原子都成键.与(NH4)2S处理的比较结果显示,几秒钟的.S2Cl2处理即可达到或超过几十分钟(NH4)2S处理的钝化效果. In this paper, the passivation of GaAs (100) surface by S2Cl2 was first studied by photoluminescence (PL) combined with AES and XPS. The results show that the PL intensity is about two orders of magnitude higher than that before passivation. The passivated surface AES spectrum shows that it contains S, Ga, AS, C and few Cl atoms but no O atoms. XPS spectrum shows that the S atom and Ga, As atoms are bonded. The comparison with (NH4) 2S treatment shows that for a few seconds. S2Cl2 treatment can reach or exceed dozens of minutes (NH4) 2S passivation effect.
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