【摘 要】
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最近的研究表明,TiN薄膜除了具有优良的化学稳定性和力学性能外,如果把它涂在显示器件上,TiN薄膜还具有良好的减反和抗静电性能.由于TiN薄膜的晶面取向和化学计量比影响它的
【机 构】
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武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室,武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室
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最近的研究表明,TiN薄膜除了具有优良的化学稳定性和力学性能外,如果把它涂在显示器件上,TiN薄膜还具有良好的减反和抗静电性能.由于TiN薄膜的晶面取向和化学计量比影响它的面电阻,从而影响它的减反和抗静电性能.本文用直流磁控溅射法,通过改变基片温度、溅射总气压及氮气与氩气的比例,在玻璃基片上制备了一系列TiN薄膜试样.利用射线衍射仪(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)对试样的晶面取向和化学计量比进行了研究.XRD的结果显示,在其它条件不变的情况下,随着基片温度的升高,TiN薄膜的(200)晶面与(111
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