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用于复印机、太阳电池、集成电路等的薄膜，必须均匀,无缺陷，能牢固地粘附在衬底上。迄今使用的制造法,例如等离子体、辉光放电、溅射、CVD(化学汽相淀积)等方法都各有优点，但也有不足之处。太阳电池若采用厚约2 μm的非晶态薄膜,则效率提高，与晶态膜场合的50~100 μm相比，可大幅度降低成本。麻省理工学院的能源研究所开拓了使用激光的新型非晶态薄膜制造法。