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本文以2008年间发表的、有关半固化片浸渍加工技术与设备为内容的日本专利为研究对象，对此创新内容及思路作以综述。
日本CCL技术的新进展（二）——半固化片浸渍加工工艺及设备研究的新进展
【摘 要】
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本文以2008年间发表的、有关半固化片浸渍加工技术与设备为内容的日本专利为研究对象，对此创新内容及思路作以综述。
【机 构】
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中国电子材料行业协会经济技术管理部
【出 处】
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覆铜板资讯
【发表日期】
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2008年6期
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