【摘 要】
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本文从集成电路和光刻技术的发展谈起,比较了一般X射线光刻和同步辐射X射线光刻这二种亚微米线条微细加工技术的优缺点,然后简要介绍了同步辐射光刻(SR1)的国内外进展,作了若
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本文从集成电路和光刻技术的发展谈起,比较了一般X射线光刻和同步辐射X射线光刻这二种亚微米线条微细加工技术的优缺点,然后简要介绍了同步辐射光刻(SR1)的国内外进展,作了若干动向分析和展望。
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