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介绍了河北工业大学微电子研究所发明成果:15～20 nm铜的CMP碱性抛光液、阻挡层CMP碱性抛光液,用于介质CMP的120 nm水溶胶磨料抛光液、互连插塞钨和铝的CMP纳米SiO2磨料碱性抛光液及ULSI硅衬底CMP抛光液及切削液、磨削液、倒角液和应力控制技术等研究成果.
微电子器件制备中CMP抛光技术与抛光液的研究
【摘 要】
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介绍了河北工业大学微电子研究所发明成果:15～20 nm铜的CMP碱性抛光液、阻挡层CMP碱性抛光液,用于介质CMP的120 nm水溶胶磨料抛光液、互连插塞钨和铝的CMP纳米SiO2磨料碱性抛
【机 构】
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河北工业大学微电子研究所
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2004年6期
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