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磁控溅射Al膜的AFM性能分析及其制备工艺研究
磁控溅射Al膜的AFM性能分析及其制备工艺研究
来源 :物理实验 | 被引量 : 0次 | 上传用户:y51211
【摘 要】
:
用原子力显微镜(AFM)对直流溅射和射频溅射制备铝膜的表面粗糙度及颗粒大小进行了分析比较.实验结果表明:溅射功率和溅射时间对铝膜表面粗糙度有影响,通过延长溅射时间或提高
【作 者】
:
何建梅
温浪明
章晨
张勋
郑锡鑫
庄炜培
张红
徐海红
【机 构】
:
华南理工大学物理科学与技术学院
【出 处】
:
物理实验
【发表日期】
:
2007年08期
【关键词】
:
铝膜
表面粗糙度
溅射功率
溅射时间
AFM
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用原子力显微镜(AFM)对直流溅射和射频溅射制备铝膜的表面粗糙度及颗粒大小进行了分析比较.实验结果表明:溅射功率和溅射时间对铝膜表面粗糙度有影响,通过延长溅射时间或提高溅射功率可使膜的平均颗粒直径增大.
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