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研究表明,研磨工艺对改善半导体晶片几何参数非常关键.本文提出了一种在研磨工艺中采用多组厚度递减的游星片和晶片翻面的方法,有效地改善了晶片的几何参数.
一种改善晶片几何参数的研磨技术
【摘 要】
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研究表明,研磨工艺对改善半导体晶片几何参数非常关键.本文提出了一种在研磨工艺中采用多组厚度递减的游星片和晶片翻面的方法,有效地改善了晶片的几何参数.
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
【出 处】
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中国集成电路
【发表日期】
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2005年12期
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