【摘 要】
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目的振荡培养条件下比较氧化锆陶瓷抛光和上釉后表面粗糙度的差异及变形链球菌在其表面的黏附能力。方法制作陶瓷样本18个。A组氧化锆陶瓷用EVE专用抛光轮高度抛光,B组上釉,C
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目的振荡培养条件下比较氧化锆陶瓷抛光和上釉后表面粗糙度的差异及变形链球菌在其表面的黏附能力。方法制作陶瓷样本18个。A组氧化锆陶瓷用EVE专用抛光轮高度抛光,B组上釉,C组用240#Al2O3磨头磨平。用表面粗糙度检测仪测量各组样本的表面粗糙度。将各组样本置于变形链球菌悬浮液中,37℃振荡培养条件下培养1h。荧光显微镜下计数黏附变形链球菌的数量,并通过扫描电子显微镜观察各样本的表面形貌。结果A、B、C组氧化锆陶瓷的表面粗糙度分别为（0.0548±0.027）μm,（0.0496±0.0
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