【摘 要】
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以NH_4F作为F~-源,制备了一系列不同含F量的高T_cYBa_2Cu_3O(_7-x)F_v超导体,在名义F含量小于1.5mol范围内,其T_c值均比与之对照的不含F样品高2～6K.用XPS研究了这类含F材料表
【机 构】
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中国科学院化学研究所,中国科学院化学研究所北京100080,北京100080
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以NH_4F作为F~-源,制备了一系列不同含F量的高T_cYBa_2Cu_3O(_7-x)F_v超导体,在名义F含量小于1.5mol范围内,其T_c值均比与之对照的不含F样品高2～6K.用XPS研究了这类含F材料表面和体相的化学态及其变化,根据同种化合物中不同元素间的结合能差和其它辅助实验结果,标识了每个元素不同化学态的光电子峰,并对各个峰的可能来源及其对应原子在结构中的位置和作用进行了讨论.结果揭示,表面和体相的化学态存在着较大差异.
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