第43届设计自动化大会——考虑偏差的设计方法迅速普及

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与芯片及电子设备设计自动化相关的国际会议“第43届设计自动化大会(DAC)”于2006年7月24日 ̄28日在美国洛杉矶隆重召开。与会人数超过了11000人,是近5年来最多的一次,参展商多达250家。在此次会议上,最受关注的是DFM(可制造性设计)技术,使用该技术可以在设计阶段解决因芯片的 International Conference on Design Automation of Chips and Electronic Equipment The 43rd Conference on Design Automation (DAC) was held on July 24-28, 2006 in Los Angeles, United States. More than 11000 participants, is the largest in nearly 5 years, with as many as 250 exhibitors. At this conference, the most talked about is the DFM (Design for Manufacturability) technology, which can be used in the design phase to solve the chip
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