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Si(111)—(√3×√3)R30°—Ga表面原子结构
Si(111)—(√3×√3)R30°—Ga表面原子结构
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:caichengzyokokok
【摘 要】
:
利用自动张量低能电子衍射(ATLEED)定量地研究Si(111)-(√3×√3)R30°-Ga重构表面的原子结构。证实了Ga原子吸附在T4位即第二层Si原子所对的空位上,同时给出了表面最顶
【作 者】
:
邓丙成
徐耕
等
【机 构】
:
华南建设学院西院基础部
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2001年4期
【关键词】
:
表面
原子结构
硅
电子衍射
重构
半导体
Si
surface
atomicstructure
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利用自动张量低能电子衍射(ATLEED)定量地研究Si(111)-(√3×√3)R30°-Ga重构表面的原子结构。证实了Ga原子吸附在T4位即第二层Si原子所对的空位上,同时给出了表面最顶层7个原子层的详细坐标。可 靠性因子RVHT=0.143表明理论计算和实验符合得非常好。
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