【摘 要】
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采用量子化学方法,通过MCH2X…ClF（M=Cu,Ag,Au;X=F,Cl,Br）和CH3X…ClF两类复合物的对比,探讨了过渡金属对卤键相互作用强度的影响.CH3X…ClF复合物只有卤键相互作用,而优化MCH2
【机 构】
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淄博职业学院化学工程系,山东大学理论化学研究所
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采用量子化学方法,通过MCH2X…ClF（M=Cu,Ag,Au;X=F,Cl,Br）和CH3X…ClF两类复合物的对比,探讨了过渡金属对卤键相互作用强度的影响.CH3X…ClF复合物只有卤键相互作用,而优化MCH2X…ClF复合物除了得到一种只含有卤键相互作用的构型外,还得到一种含有过渡金属和Cl原子相互作用的稳定构型.含有过渡金属的复合物稳定性明显增加,Ag取代的复合物稳定性增加最为明显,Cu次之,Au最不明显.X原子最负分子表面静电势（MEP）减小是复合物稳定性增加的根本原因.利用自然键轨道（NBO）
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