LPCVD制备Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>薄膜工艺研究

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本文简要介绍了Si3N4薄膜的制备方法,详细介绍了低压化学气相淀积(Low Pressure Chemical Vapor Deposition)LPCVD制备氮化硅的工艺。并对工艺的结果进行了适当的分析,为LPCVD制备高质量的Si3N4薄膜奠定了基础。
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