双靶溅射法制备M—SmS光学薄膜的研究

来源 :材料科学与工艺 | 被引量 : 0次 | 上传用户：honeykaka

【摘要】

：

为了制备难以直接获得的金属相SmS,以Sm和Sm2S3为靶材,采用双靶子溅射系统,于单晶Si基板上直接获得了常温常压下稳定存在的M-SmS微晶薄膜,并采用XRD分析、内应力和RBS成分测

【作者】

：

黄剑锋曹丽云

【机构】

：

陕西科技大学材料科学与工程学院

【出处】

：

材料科学与工艺

【发表日期】

：

2004年1期

【关键词】

：

双靶溅射法制备工艺 M-SmS光学薄膜膨胀系数硫化钐半导体 SmS optical thin filmsputteringmechanism inter

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为了制备难以直接获得的金属相SmS,以Sm和Sm2S3为靶材,采用双靶子溅射系统,于单晶Si基板上直接获得了常温常压下稳定存在的M-SmS微晶薄膜,并采用XRD分析、内应力和RBS成分测试等手段对M-SmS的形成机理进行了研究.结果表明:M-SmS薄膜的形成是由于薄膜中存在压应力,压应力的形成与薄膜基板温度、薄膜沉积速率、薄膜中Sm元素过量以及基板之间膨胀系数的差异有关.

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