【摘 要】
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在电流密度为0.01~0.05 A/cm^2的条件下进行光亮锡镀。研究了电流密度对阴极过电位、电流效率及镀层厚度的影响,并用SEM和XRD对镀层的表面形貌和晶粒的择优取向进行了表征。
【机 构】
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电子科技大学材料与能源学院,博敏电子股份有限公司,奈电软性科技电子（珠海）有限公司
【基金项目】
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广东省"扬帆计划"引进创新创业团队项目(No.2015YT02D025),广东省科技计划项目(No.2016B090918095).
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在电流密度为0.01~0.05 A/cm^2的条件下进行光亮锡镀。研究了电流密度对阴极过电位、电流效率及镀层厚度的影响,并用SEM和XRD对镀层的表面形貌和晶粒的择优取向进行了表征。结果表明:随着电流密度的增大,阴极过电位和镀层厚度不断增加,电流效率先增大后减小。在较低的电流密度下得到的镀层表面较为均匀、致密;当电流密度高于0.03 A/cm^2时,镀层表面出现较多孔隙,粗糙度增加。不同电流密度下,晶粒的择优取向不同。当电流密度高于0.03 A/cm^2时,晶粒的择优取向由(101)晶面和(211)晶面向
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