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通道电子倍增器内壁涂层的X射线光电子能谱分析
通道电子倍增器内壁涂层的X射线光电子能谱分析
来源 :分析测试技术与仪器 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cnunicomlxq
【摘 要】
:
用氩离子溅射-XPS纵深分析方法对通道电子倍增器内二次电子发射材料的元素组成和原子价态进行了分析,结果表明该材料中的主要元素为Pb,Bi,Ba,Si和O,其中Pb和Bi都以混合价态存在,它
【作 者】
:
邱丽美
刘芬
赵良仲
【机 构】
:
中国科学院化学研究所分析测试中心
【出 处】
:
分析测试技术与仪器
【发表日期】
:
2004年3期
【关键词】
:
光电子能谱
倍增器
价态
PB
BI
XPS
channeltron
valence states
Pb
Bi
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用氩离子溅射-XPS纵深分析方法对通道电子倍增器内二次电子发射材料的元素组成和原子价态进行了分析,结果表明该材料中的主要元素为Pb,Bi,Ba,Si和O,其中Pb和Bi都以混合价态存在,它们分别是Pb^2+和Pb^0;Bi^3+和Bi^0.
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