直流磁控溅射(Ti、Al)N硬化膜的研制

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本文介绍单靶直流磁控溅射三元复合(Ti,Al)N硬化膜的研制结果。制得的Ti<sub>0.5</sub>Al<sub>0.5</sub>N腹具有(111)面择优取向Bl NaCl立方结构,显微硬度达到2700kg/mm<sup>2</sup>,并具有良好的抗氧化性和抗酸腐蚀性。文中着重讨论了沉膜过强中氮分压、基片负偏压以及基片温度对薄膜显微硬度、形貌、晶粒尺寸和晶格常数的影响。
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