【摘 要】
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运用XRD、EPMA、TEM等手段分析在Ti—6Al—4V基材上用激光化学气相反应生长的Ti（C，N）薄膜的成分、结构、显微组织可在基材表面形成大面积均匀的Ti（C，N）膜层，为无明显择优取向的等轴
【机 构】
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中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所
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运用XRD、EPMA、TEM等手段分析在Ti—6Al—4V基材上用激光化学气相反应生长的Ti（C，N）薄膜的成分、结构、显微组织可在基材表面形成大面积均匀的Ti（C，N）膜层，为无明显择优取向的等轴纳米晶，其中有少量的Ti2N相，且Al、V含量低于基材。
The composition, structure and microstructure of Ti (C, N) thin film grown on Ti-6Al-4V substrate by laser chemical vapor-phase reaction were analyzed by XRD, EPMA and TEM. The microstructure could form large area uniform The Ti (C, N) film is an equiaxed nanocrystal with no obvious preferential orientation with a small amount of Ti2N phase, and the content of Al and V is lower than that of the substrate.
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