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一氧化硅是半导体材料的原料,主要提纯手段,首先将二氧化硅制取好,纯度为(99.99)%高纯,然后将99%以上纯度的硅粉进行提纯处理,上述高纯的二氧化硅与硅粉配好混合料后,进行加热反应,然后灼烧,冷却后得成品。
高纯一氧化硅的制备与提纯
【摘 要】
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一氧化硅是半导体材料的原料,主要提纯手段,首先将二氧化硅制取好,纯度为(99.99)%高纯,然后将99%以上纯度的硅粉进行提纯处理,上述高纯的二氧化硅与硅粉配好混合料后,进行加
【机 构】
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上海科学技术联合公司化学工程部,上海试剂一厂200031
【出 处】
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化学世界
【发表日期】
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1993年11期
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