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为了实现半导体微盘磁光器的单模面发射,设计了一种以InGaN多量子阱为有源层,CaN外延层为覆盖层的半导体微盘激光器。通过对GaN覆盖层进行图形刻蚀,可以对不同的角模式进行有选择的增益,由此实现选模。用有效增益因子加电介质盘的模型对实际微盘结构进行简化,并根据此模型计算微盘外的远场分布,并进上步计算有效增益因子。分析表明,这种结构能够实现m=1角模式的面发射。