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在不同的氮气比例下,固定其他的放电条件,采用中频磁控测射沉积技术在常温下沉积AlNx薄膜.通过原子力显微镜研究了氮气比例对AlNx薄膜形貌和薄膜表面均方根粗糙度的影响.
中频磁控溅射沉积AlNx薄膜原子力形貌
【摘 要】
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在不同的氮气比例下,固定其他的放电条件,采用中频磁控测射沉积技术在常温下沉积AlNx薄膜.通过原子力显微镜研究了氮气比例对AlNx薄膜形貌和薄膜表面均方根粗糙度的影响.
【机 构】
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大连理工大学三束材料改性国家重点实验室大连理工大学三束材料改性国家重点实验室大连理工大学三束材料改性国家重点实验室大连理工大学三束材料改性国家重点实验室
【出 处】
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航空制造技术
【发表日期】
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2007年z1期
【基金项目】
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国家自然科学基金青年基金(50407015)资助项目.
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