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１引言一年半以前，国际ＳＥＭＡＴＥＣＨ财团将光学光刻的接班技术选择缩小到４种：极紫外（ＥＵＶ）、离子投影光刻（ＩＰＬ）、限角散射投影电子束光刻（ＳＣＡＬＰＥＬ）和ｘ射线光刻技术。已证实，各种技术均具有７０ｎｍ以下特征尺寸的作图能力。然而，根据下代光刻...
下代光刻设备的再次选择
【摘 要】
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１引言一年半以前，国际ＳＥＭＡＴＥＣＨ财团将光学光刻的接班技术选择缩小到４种：极紫外（ＥＵＶ）、离子投影光刻（ＩＰＬ）、限角散射投影电子束光刻（ＳＣＡＬＰＥＬ）和ｘ射线光刻技术。已证实，各种技术均具有７０ｎｍ以下特征尺寸的作图能力。然
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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1999年2期
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