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本文利用二苯碘盐为光敏产酸物，吩噻嗪为敏化剂，配制了一种甲酚醛树脂———六甲氧基甲基三聚氰胺（ＨＭＭＭ）负性水型紫外化学增抗蚀剂，并研究了光敏产酸物和增感剂对体系光敏性的影响及体系中存在的拉平效应，通过优化后的光刻工艺条件得到了分辨率为１．２４μｍ的光刻图形．
甲酚醛树脂—HMMM负性水型化学增幅抗蚀剂的研究
【摘 要】
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本文利用二苯碘盐为光敏产酸物，吩噻嗪为敏化剂，配制了一种甲酚醛树脂———六甲氧基甲基三聚氰胺（ＨＭＭＭ）负性水型紫外化学增抗蚀剂，并研究了光敏产酸物和增感剂对体系光敏性的影响及
【机 构】
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清华大学化学系
【出 处】
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感光科学与光化学
【发表日期】
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1998年2期
【基金项目】
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国家自然科学基金
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