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化学机械抛光(CMP)技术作为目前唯一可提供在整个晶圆片上全面平坦化的工艺技术,已被越来越广泛地应用到了半导体领域。通过了解化学机械抛光(CMP)技术原理,分析出影响晶片抛光质量的主要因素基础上开发了超精密砷化镓晶片抛光机。重点介绍了该抛光机结构组成,及其研制的关键技术和创新点。
超精密砷化镓晶片抛光机的研制
【摘 要】
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化学机械抛光(CMP)技术作为目前唯一可提供在整个晶圆片上全面平坦化的工艺技术,已被越来越广泛地应用到了半导体领域。通过了解化学机械抛光(CMP)技术原理,分析出影响晶片抛
【机 构】
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云南省机械研究设计院,昆明台兴精密机械有限责任公司
【出 处】
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机电产品开发与创新
【发表日期】
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2013年04期
【基金项目】
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科技型中小企业创新基金(11C26215305878)
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