【摘 要】
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采用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为10mm×0.5mm,周期为500nm,占空比为1∶1,金吸收体厚度为430nm的可用于X射线衍射的大面积透射光栅.首先利用电子束光
【机 构】
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中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室; 中国工程物理研究院激光聚变中心; 中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室 北京100029; 北京1
【基金项目】
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国家重点基础研究发展规划(批准号:2007CB935302);国家高技术研究发展计划(批准号:2006AA843134);国家自然科学基金(批准号:90607022)资助项目~~
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采用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为10mm×0.5mm,周期为500nm,占空比为1∶1,金吸收体厚度为430nm的可用于X射线衍射的大面积透射光栅.首先利用电子束光刻和微电镀技术制备基于镂空薄膜结构的X射线光刻掩模,然后利用X射线光刻经济、高效地复制X射线透射光栅.整个工艺流程分别利用了电子束光刻分辨率高和X射线光刻效率高的优点,并且可以得到剖面陡直的纳米级光栅线条.最后,测量了制作出的X射线透射光栅对波长为11nm同步辐射光的衍射峰,实验结果表明该光栅具有良好的衍射特性.
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