【摘 要】
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离子注入是将加速到一定能量的离子射入固体内的物理方法,它在半导体集成电路工业中用于硅片掺杂为人们所熟知。离子注入处理金属表面,提高金属的表面硬度,并获得优良的耐磨
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离子注入是将加速到一定能量的离子射入固体内的物理方法,它在半导体集成电路工业中用于硅片掺杂为人们所熟知。离子注入处理金属表面,提高金属的表面硬度,并获得优良的耐磨损性和耐蚀性,是近年来发展起来的一种新技术。原理和方法:所用的金属材料为软钢、
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