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在大气压下，利用工作在16kHz的介质阻挡放电（DBD）等离子枪，以氩气为工作气体，分别用四甲基硅氧烷（TEOS）、六甲基硅氧烷（HMDSO）和八甲基环四硅氧烷（D4）为单体，通过改变栽气流量、等离子体放电功率等研究聚合SiOx薄膜的结构性能影响。采用红外光谱（FTIR）分析所沉积SiOx薄膜的结构，通过接触角测试了解其表面亲／疏水性能。