【摘 要】
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针对硅基二氧化硅阵列波导光栅解复用器(AWG DEMUX)的偏振相关损耗(PDL)进行了优化。理论分析了引起AWG偏振相关性的物理因素以及消除偏振相关性的工艺方法及条件。利用化学
【机 构】
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郑州大学物理学院博士后流动站; 河南仕佳光子科技股份有限公司;
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针对硅基二氧化硅阵列波导光栅解复用器(AWG DEMUX)的偏振相关损耗(PDL)进行了优化。理论分析了引起AWG偏振相关性的物理因素以及消除偏振相关性的工艺方法及条件。利用化学气相沉积(CVD)、光刻和刻蚀等半导体工艺制备了AWG DEMUX芯片,并结合理论分析对包层材料中的硼(B)、磷(P)含量进行了优化调整,成功的将芯片的PDL降低至0.12dB,使PDL参数满足芯片的商用化需求。
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