全国半导体设备和材料标准化技术委员会第三届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会圆满闭幕

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全国半导体设备和材料标准化技术委员会第三届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会于2013年11月11-13日在四川成都隆重召开,大会由全国半导体设备材料标准化技术委员会秘书处王香秘书主持。来自全国微光刻分技术委员会的委员和国内外微光刻领域的专家及技术人员近100人参加了本次会 National Semiconductor Equipment and Materials Standardization Technical Committee third session of the micro-lithography and microlithography Technical Committee annual meeting November 11-13, 2013 held in Chengdu, Sichuan Province, the General Assembly by the National Semiconductor Equipment Materials Standardization Technical Committee Secretary Wang Xiang Secretary presided over. Nearly 100 participants from the National Committee of Micromirror Technology and experts and technicians at home and abroad in the field of micro-lithography attended the meeting
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