【摘 要】
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采用射频磁控溅射方法在玻璃和硅（100）衬底上制备了不同氧分压的Cu掺杂ZnO（ZnO∶Cu）薄膜。利用X射线衍射（XRD）、原子力显微镜（AFM）和光致荧光发光（PL）等表征技术,研究了衬底和氧分压对Z
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采用射频磁控溅射方法在玻璃和硅（100）衬底上制备了不同氧分压的Cu掺杂ZnO（ZnO∶Cu）薄膜。利用X射线衍射（XRD）、原子力显微镜（AFM）和光致荧光发光（PL）等表征技术,研究了衬底和氧分压对ZnO∶Cu薄膜的结晶性能和光学特性的影响。结果显示薄膜沉积在Si衬底上比玻璃衬底上有更好c轴择优取向,两种衬底上沉积的薄膜有相同的氧分压结晶规律,且在氧氩比为10∶10时,薄膜c轴取向同时达到最好。通过对光致发光的研究表明,在低氧环境时玻璃衬底较容易制得好的发光薄膜,可在富氧环境时Si衬底上制得的薄膜发光
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