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线性余因子差分亚阈电压峰技术测量电应力诱生MOSFET界面陷阱的研究
线性余因子差分亚阈电压峰技术测量电应力诱生MOSFET界面陷阱的研究
来源 :电子学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wanghuia23
【摘 要】
:
本文提出了用线性余因子差分亚阀电压峰测量电应力诱生MOSFET界面陷阱的新技术并进行了实验验证,详细介绍了该方法的基本原理和实验实现,得到了电应力诱生MOSFET界面陷阱和累积
【作 者】
:
何进
张兴
等
【机 构】
:
北京大学微电子学研究所,美国加州大学BERKELEY分校EECS系
【出 处】
:
电子学报
【发表日期】
:
2002年8期
【关键词】
:
线性余因子差分亚阀电压峰
电应力诱生
MOSFET
界面陷阱
MOS器件
应力时间
MOSFETs
interface traps
linear cofacto
【基金项目】
:
国家重大基础研究项目 (No.2 0 0 0 0 3650 1 )
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本文提出了用线性余因子差分亚阀电压峰测量电应力诱生MOSFET界面陷阱的新技术并进行了实验验证,详细介绍了该方法的基本原理和实验实现,得到了电应力诱生MOSFET界面陷阱和累积应力时间的关系,该方法具有普适性,可用于MOSEFT的一般可靠性研究和寿命预测。
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