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为了提高化妆品生产设备的清洗效率和质量,采用PLC、人机界面和上位机设计了一套监控系统。PLC与上位机的通讯使用OPC协议。为方便现场操作人员快速准确设置清洗参数,根据清洗工艺,并结合用户所需的配方功能,编写了配方脚本。应用表明,系统清洗效果良好,可减轻劳动强度,提高清洗效率。
化妆品生产CIP清洗监控系统设计
【摘 要】
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为了提高化妆品生产设备的清洗效率和质量,采用PLC、人机界面和上位机设计了一套监控系统。PLC与上位机的通讯使用OPC协议。为方便现场操作人员快速准确设置清洗参数,根据清
【机 构】
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轻工过程先进控制教育部重点实验室江南大学
【出 处】
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仪表技术与传感器
【发表日期】
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2015年08期
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