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采用恒定电压和恒定电流试验方法对20 nm栅氧化层进行了TDDB可靠性评价试验,并完成了1/E模型参数提取,给出了恒定电流应力下描述氧化层TDDB退化的统计模型,较好地解释了试验结果.
栅氧化层TDDB可靠性评价试验及模型参数提取
【摘 要】
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采用恒定电压和恒定电流试验方法对20 nm栅氧化层进行了TDDB可靠性评价试验,并完成了1/E模型参数提取,给出了恒定电流应力下描述氧化层TDDB退化的统计模型,较好地解释了试验
【机 构】
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信息产业部电子第五研究所,无锡微电子科研中心
【出 处】
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电子产品可靠性与环境试验
【发表日期】
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2002年1期
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