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质子和4He离子激发金和铋产生的LX射线的相对强度
质子和4He离子激发金和铋产生的LX射线的相对强度
来源 :核技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hesur
【摘 要】
:
利用ECPSSR电离理论和新获得的L次亮层荧光产额等,计算了质子和~4He离子激发Au和Bi所产生的LX射线相对强度。质子能量为0.18—10MeV,~4He离子能量为1.0—4.0MeV。计算结果和
【作 者】
:
徐君权
许浔江
【机 构】
:
中国科学院上海原子核研究所,中国科学院上海原子核研究所上海201800,上海201800
【出 处】
:
核技术
【发表日期】
:
1992年2期
【关键词】
:
PWBA理论
电离截面
LX射线
L次壳层
Ionization cross section L X-ray L-subshell fluorescence y
【基金项目】
:
国家自然科学基金
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利用ECPSSR电离理论和新获得的L次亮层荧光产额等,计算了质子和~4He离子激发Au和Bi所产生的LX射线相对强度。质子能量为0.18—10MeV,~4He离子能量为1.0—4.0MeV。计算结果和报道的实验测量符合得很好。没有发现L次壳层偶合效应。
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