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概述了近年来制备类金刚石膜的新方法如双射频辉光放电 (RF-RF)法、射频-直流辉光放电 (RF-DC)法和微波-射频 (MW-RF)法等;并且对影响类金刚石膜制备及性能的因素如基体材料、制备类金刚石膜时在膜中添加元素、类金刚石膜与基材之间的中间层等进行了较全面的分析。
类金刚石膜的制备及其影响因素
【摘 要】
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概述了近年来制备类金刚石膜的新方法如双射频辉光放电 (RF-RF)法、射频-直流辉光放电 (RF-DC)法和微波-射频 (MW-RF)法等;并且对影响类金刚石膜制备及性能的因素如基体材料
【机 构】
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华南理工大学
【出 处】
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中国表面工程
【发表日期】
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2002年01期
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