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抛光垫修整是化学机械抛光的重要过程之一。合理的修整可以改善修整效果，提高抛光质量。抛光垫的修整效果可以通过修整器的设计和修整工艺参数进行调整。文章通过对CMP用抛光垫修整现状的阐述，分析了对其修整效果的影响因素。金刚石颗粒的排列方式会影响修整效果，颗粒尺寸的增大会促进修整效率的提高．修整效率随着修整压力的增大而增大，修整时间和转速对修整效率有影响。温度的升高，可以改善修整质量，修整密度越大，抛光垫的磨损率越高。