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介绍了当前CMP的最新动态,包括CMP设备市场、电化学机械抛光、新型φ300mm晶圆CMP设备和阻挡层研磨版等.
CMP的最新动态
【摘 要】
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介绍了当前CMP的最新动态,包括CMP设备市场、电化学机械抛光、新型φ300mm晶圆CMP设备和阻挡层研磨版等.
【机 构】
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无锡市罗电子有限公司
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2005年1期
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