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利用射频化学气相沉积法，通过硼的掺杂，在石英玻璃衬底上生长出ｐ型微晶金刚石薄膜。范德堡法的测试表明，我们得到的薄膜最小电阻率为４×１０＾－１Ω．ｃｍ，最大空穴迁移率为５０ｃｍ＾２／Ｖ．ｓ；从电阻率与温度关系近似计算出杂质激活能。
用射频化学气相沉积法制备p型微晶金刚石薄膜
【摘 要】
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利用射频化学气相沉积法，通过硼的掺杂，在石英玻璃衬底上生长出ｐ型微晶金刚石薄膜。范德堡法的测试表明，我们得到的薄膜最小电阻率为４×１０＾－１Ω．ｃｍ，最大空穴迁移率为５０ｃｍ＾２／Ｖ．ｓ；从电阻率与温度关系
【机 构】
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厦门大学物理学系,上海科技大学材料科学系
【出 处】
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无机材料学报
【发表日期】
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1996年2期
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