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在霍普金斯理论的基础上，对方孔的传统掩模、衰减相移以及加入光学邻近效应校正的衰减相移掩模在硅片表面光强分布的计算表明，衰减相掩模有提高光刻分辨率的显著功能，提出一种制作衰减相移掩模的编码方法。理论计算表明，该编码方法能够达到预定的衰减参数。
衰减相移掩模及其编码制作方法研究
【摘 要】
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在霍普金斯理论的基础上，对方孔的传统掩模、衰减相移以及加入光学邻近效应校正的衰减相移掩模在硅片表面光强分布的计算表明，衰减相掩模有提高光刻分辨率的显著功能，提出一种制
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重
【出 处】
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光学学报
【发表日期】
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1999年8期
【基金项目】
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中国科学院“九·五”应用研究与发展重大项目
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