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期刊论文
分子电镀法制备^237Np核靶
分子电镀法制备^237Np核靶
来源 :原子能科学技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jingliang2xx
【摘 要】
:
研究了在异丙醇介质中电沉积制备^237Np核靶的方法,分析了电流、电压、电镀时间、体系中的含水量等因素对沉积率的影响,并给出了^237Np的纯化及不同厚度的核靶的制备程序,成功地
【作 者】
:
罗旭
【机 构】
:
中国原子能科学研究院同位素研究所
【出 处】
:
原子能科学技术
【发表日期】
:
2002年4期
【关键词】
:
制备
分子电镀
核靶
沉积率
镎靶
molecular plating
237Np
nuclear targets
deposition yield
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研究了在异丙醇介质中电沉积制备^237Np核靶的方法,分析了电流、电压、电镀时间、体系中的含水量等因素对沉积率的影响,并给出了^237Np的纯化及不同厚度的核靶的制备程序,成功地将^237Np以2-700μg/cm^2沉积下来。
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