脉冲激光法外延生长新型锰氧化物YNi0.5Mn0.5O3薄膜

来源 :中国有色金属学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：Vince6666

【摘要】

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利用脉冲激光法在SrTiO3衬底上外延生长了新型锰氧化物Yni0.5Mn0.5O3薄膜.通过实验发现,在STO衬底上生长的薄膜均为高度一致的(00l)取向、外延生长的单相膜.薄膜的居里转变温

【作者】

：

马衍伟 M.Guilloux-Viry O.Pena C.M

【机构】

：

中国科学院,UMR 6511,Instituto de Ceramica y Vidrio

【出处】

：

中国有色金属学报

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

外延生长脉冲激光法 YNi0.5Mn0.5O3薄膜磁特性

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利用脉冲激光法在SrTiO3衬底上外延生长了新型锰氧化物Yni0.5Mn0.5O3薄膜.通过实验发现,在STO衬底上生长的薄膜均为高度一致的(00l)取向、外延生长的单相膜.薄膜的居里转变温度等值于相应块材的温度;薄膜和块材的磁特性明显不同,薄膜呈现一种典型的团簇玻璃特征.此外,探讨了这一薄膜的外延生长与其磁特性的关系.

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